keemiline aursadestuspindamine, mis kasutab mikrolainete poolt indutseeritud plasmat reaktsioonikiiruse suurendamiseks (vt keemiline aursadestus), microwave chemical vapor deposition (CVD) assisted by radio frequency plasma (see: chemical vapor deposition), химическое осаждение из паровой фазы (ХПО) при помощи высокочастотной плазмы (см. химическое осаждение из паровой фазы)