classic thermal vapor deposition, where for activating hydrogen, nitrogen or methane, they are provided thermally at temperature around 1000 °C (see: chemical vapor deposition), klassikaline keemiline aursadestusprotsess/-operatsioon, mille korral kasutatav vesinik, lämmastik või metaan aktiveeritakse temperatuuril üle 1000 °C (vt keemiline aursadestus), процесс (операция) химического осаждения из паровой фазы, в котором газ (H2, N2, CH4) активируется при температуре больше 1000 °C (см. химическое осаждение из паровой фазы)