voolutiheduse vahemik, mille ulatuses on võimalik saada rahuldav elektrolüütiliselt sadestatud pinne(vt galvaanimine/elektrolüüspindamine, voolutihedus)
current density range over which a satisfactory electrodeposit can be obtained (electroplating, current density)
На странице корпусного менеджера SkELL пользователь может познакомиться с контекстами употребления и с распространёнными сочетаниями слова, а также с синонимами и другими близкими по значению словами. Данные выбраны компьютером aвтомaтически и могут содержать ошибки.
