ioonpommitusaurustusprotsess/-operatsioon, mille korral plasma moodustamiseks rakendatakse ainult märklauda ja alusmaterjali (vt aursadestus), vapor deposition process, where only target and base material for plasma forming are applied (see: vapor deposition), процесс вакуумно-конденсационного напыления, при котором для образования плазмы применяют только мишень и подложку (см. вакуумно-конденсационное напыление)
