газофазное химическое осаждение, ГФХО, метод химического осаждения из газовой фазы, метод химического осаждения из паровой фазы, нанесение покрытия парообразными химическими соединениями, нанесение покрытия химическим осаждением из паров, нанесение твёрдого покрытия парообразными химическими соединениями, осаждение из пара с помощью химической реакции, осаждение покрытий из газовой и паровой фазы, химическое газофазное осаждение, химическое испарение-осаждение, химическое нанесение из газовой фазы, химическое осаждение из газовой среды, химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из газообразного состояния вещества на подложку, химическое осаждение из паровой газовой фазы, химическое осаждение из паровой или газовой среды, химическое осаждение из паровой или газовой фазы, химическое осаждение из паровой среды, химическое осаждение из парогазовой фазы, химическое осаждение из паровой фазы, химическое парофазное осаждение, химическое покрытие паром, ХОПФ, ХПО, CVD-процесс
gaassüsinikrikastamisele ja nitrosüsinikrikastamisele sarnane pindamisprotsess, kus töökambrisse juhitud reaktiivgaaas laguneb detaili pinnal; gaaside segu ja kuumutatud materjali koosmõjul tekkinud keemiliste ühendite sadestamisel toote pinnale moodustub õhuke pinne (vt aursadestus, madalatemperatuurne CVD, mõõdukatemperatuurne CVD, plasmatoel CVD; vrd füüsikaline aursadestus), a coating process similar to gas carburizing and nitrocarburizing whereby a react atmosphere gas fed into process chamber where it decompose at the surface of workpiece; in the result of substrate reaction formed chemical compounds deposite onto the substrate forming thin layer (see: vapor deposition, low-temperature CVD, medium-temperature CVD, plasma-assisted CVD; compare: physical vapor deposition), метод получения покрытий, при котором при осаждении химических соединений, синтезированных при контакте газовой смеси с нагретым материалом, образуется тонкое (до 20–30 мкм) покрытие (см. газофазное осаждение; ср. физическое осаждение из газовой фазы)
