PVD-технология термическим испарением нагревом прямым прохождением тока
vaakumaursadestuspindamisprotsess/-operatsioon, mille korral pindematerjal (reeglina madala sulamistemperatuuriga) aurustatakse sellest elektrivoolu läbilaskmise teel ja suunatakse alusmaterjalile (vt füüsikaline aursadestuspindamine, PVD), PVD process where atomisation of deposited metal will be evaporated by resistance heating (see: physical vapor deposition), процесс (операция) вакуумно-конденсационного напыления, в ходе которого материал покрытия (как правило, с невысокой температурой плавления) испаряют, пропуская сквозь него электрический ток, и направляют пары на подложку (см. физическое осаждение из паровой фазы, ФОПФ)