газофазное химическое осаждение, ГФХО, метод химического осаждения из газовой фазы, метод химического осаждения из паровой фазы, нанесение покрытия парообразными химическими соединениями, нанесение покрытия химическим осаждением из паров, нанесение твёрдого покрытия парообразными химическими соединениями, осаждение покрытий из газовой и паровой фазы, химическое газофазное осаждение, химическое испарение-осаждение, химическое нанесение из газовой фазы, химическое осаждение в паровой фазе, химическое осаждение из газовой среды, химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из газообразного состояния вещества на подложку, химическое осаждение из паровой газовой фазы, химическое осаждение из паровой или газовой среды, химическое осаждение из паровой или газовой фазы, химическое осаждение из паровой среды, химическое осаждение из парогазовой фазы, химическое осаждение из паровой фазы, химическое парофазное осаждение, химическое покрытие паром, ХОПФ, ХПО, CVD-процесс
метод получения покрытий, при котором при осаждении химических соединений, синтезированных при контакте газовой смеси с нагретым материалом, образуется тонкое (до 20–30 мкм) покрытие (см. газофазное осаждение; ср. физическое осаждение из газовой фазы), deposition of a coating by chemical reaction, induced by heat or gaseous reduction of vapour condensing on a substrate (compare: physical vapor deposition), kuumuse või auru gaasilise taandamise toel keemilise reaktsiooni tulemusena saadud auru kondenseerimisega alusmaterjalile pinde sadestamine (vrd füüsikaline aursadestus)
