aatomkihtsadestamise teel kiht-kihilt pealekantud õhuke mõne aatomkihi paksune kiht (taval. 0,1 nm) (vt aatomkihtsadestus), a layer obtained via atomic layer deposition, done one after other; film thickness during single deposition is typically about 0.1 nm (see: atomic layer deposition), слой толщиной в несколько атомов, полученный атомно-слоевым осаждением за несколько этапов; толщина плёнки во время цикла осаждения обычно составляет около 0,1 нм (см. атомно-слоевое осаждение)