en

LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE

1 tähis lühend

Erialasõnastikud

Metroloogia terminibaas

ID 1142270 Viimati muudetud 07.02.2026
Vaata sõnakogu
Vaata sõnakogu
Valdkond metroloogiamõõduvahendidmeasuring procedures
  • spetsifikatsioonidga lubatav vastasvarb-/vastasnõelotsaku eenduva kohahälbe äärmine väärtus avamõõdul
  • extreme value of the opposing-styli projected location error on a ring gauge, permitted by specifications
maksimaalselt lubatav vastasvarbotsaku eenduv kohahälve avamõõdul
Näited
  • Maksimaalselt lubatavat vastasvarbotsaku eenduvat kohahälvet avamõõdul LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE saab väljendada ühel järgmisest kolmest kujust: LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE = minimaalne (A+LP/K) + B või = (A+LP/K) või = B, kus A on tootja esitatud positiivne konstant, väljendatuna mikromeetrites, K on tootja esitatud mõõtmeteta positiivne konstant, LP on tugirõnga ja kontrollrõnga keskpunktide vaheline 3D-kaugus millimeetrites, B on tootja poolt määratud maksimaalselt lubatav hälve mikromeetrites.
LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE tähis, lühend
maximum permissible opposing-styli projected location error on a ring gauge
Näited
  • The maximum permissible opposing-styli projected location error on a a ring gauge LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE, can be expressed in one of three forms: LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE = minimum of (A+LP/K) + B, or = (A+LP/K), or = B, where A is a positive constant, expressed in micrometres and supplied by the manufacturer, K is a dimensionless positive constant supplied bu the manufacturer, LP is the distance in 3D between the centres of the reference ring gauge and the test ring gauge, in millimetres, B is the maximum permissible error in micrometres, as stated by the manufacturer.
LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE tähis, lühend

Sõnavormid puuduvad

Päritolu andmed puuduvad

Sõna seosed puuduvad

Lisanäited

Veebilehelt SkELL saad vaadata sõna kasutusnäiteid, naabersõnu ja sarnase tähendusega sõnu. Need on automaatselt valitud ning võivad sisaldada vigu.