LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE

tähis lühend

Erialasõnastikud

ID 1142270 Viimati muudetud 07.02.2026

Valdkond metroloogiamõõduvahendidmeasuring procedures

spetsifikatsioonidga lubatav vastasvarb-/vastasnõelotsaku eenduva kohahälbe äärmine väärtus avamõõdul

extreme value of the opposing-styli projected location error on a ring gauge, permitted by specifications

maksimaalselt lubatav vastasvarbotsaku eenduv kohahälve avamõõdul

Näited

Maksimaalselt lubatavat vastasvarbotsaku eenduvat kohahälvet avamõõdul LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE saab väljendada ühel järgmisest kolmest kujust: LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE = minimaalne (A+LP/K) + B või = (A+LP/K) või = B, kus A on tootja esitatud positiivne konstant, väljendatuna mikromeetrites, K on tootja esitatud mõõtmeteta positiivne konstant, LP on tugirõnga ja kontrollrõnga keskpunktide vaheline 3D-kaugus millimeetrites, B on tootja poolt määratud maksimaalselt lubatav hälve mikromeetrites.

maksimaalselt lubatav vastasnõelotsaku eenduv kohahälve avamõõdul

tähis, lühend

maximum permissible opposing-styli projected location error on a ring gauge

Näited

The maximum permissible opposing-styli projected location error on a a ring gauge LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE, can be expressed in one of three forms: LDia.Proj.Cir.Scan:j:Tact,MPE = minimum of (A+LP/K) + B, or = (A+LP/K), or = B, where A is a positive constant, expressed in micrometres and supplied by the manufacturer, K is a dimensionless positive constant supplied bu the manufacturer, LP is the distance in 3D between the centres of the reference ring gauge and the test ring gauge, in millimetres, B is the maximum permissible error in micrometres, as stated by the manufacturer.

tähis, lühend

Otsin lisanäiteid...

Otsin tõlgitud näiteid...