an ion implantation technique in which ion beams are combined with physical vapor deposition (see: ion implantation, physical vapor deposition; compare: ion beam mixing, ion beam sputtering, plasma ion deposition), ioonimplantatsioonimoodus, mille korral ioonkiired on kombineeritud füüsikalise aursadestusega (vt ioonimplantatsioon, füüsikaline aursadestus; vrd ioonkiirsegamine, ioonkiiratomisatsioon, ioonplasmasadestus)