a chemical vapor deposition used to produce high purity, high performance films, where laser beam is used to locally heat substrate causing the vapor deposition chemical reaction to proceed faster at that site (see: chemical vapor deposition), keemiline aursadestusprotsess/-operatsioon, mille korral kasutatakse laserkiirt alusmaterjali lokaalseks kuumutamiseks järgneva keemilise reaktsiooni kiirendamiseks sellel kohal (vt keemiline aursadestus), химическое осаждение из паровой фазы, применяемое для осаждения плёнок высокой чистоты с высокими эксплуатационными характеристиками, при котором луч лазера используется для локального нагрева подложки, чтобы химическая реакция вакуумного осаждения шла бы в этом месте быстрее