keemiline aursadestuspindamisprotsess/-operatsioon (CVD), mille korral pinde koostisosade moodustumine toimub keemiliste reaktsioonide tulemusel kõrgel temperatuuril kontaktis alusmaterjaliga (vt keemiline aursadestus), cemical vapor deposition (CVD) process by activation of chemical reactions by thermal energy at elevated temperatures (see: chemical vapor deposition), осаждение через активацию тепловой энергией химических реакций при повышенных температурах (см. химическое осаждение из паровой фазы)