vaakumsadestusprotsess/-operatsioon, mille korral vaakumis aurustatud metalli ja lisatud aktiivgaasi keemilise reaktsiooni tulemusena moodustub õhuke pinne (vt aursadestus, füüsikaline aursadestus, keemiline aursadestus), a vacuum deposition process in which a vaporized metal reacts with an active gas in the chamber promoting deposition of the material on a substrate (see: vapor deposition, physical vapor deposition, chemical vapor deposition), процесс образования покрытия, при котором пары материалов конденсируются путём физической конденсации, химической реакции или модификации, образуя на подложке твёрдый слой (см. физическое осаждение из паровой фазы, химическое осаждение из паровой фазы)