physical vapor deposition (PVD) process, where to melt and evaporate of material to be deposited, is used low-pressure glow-discharge plasma (see: physical vapor deposition), füüsikalise aursadestuse protsess, mille korral pealekantava materjali sulatamiseks ja aurustamiseks kasutatakse plasmahuumlahenduskuumutust (vt füüsikaline aursadestus)