füüsikaline nähtus, millele on iseloomulik tahke või vedela materjali pinnalt aatomite või ioonide eraldamine kõrge energiaga ioonidega pommitamisel (vt atomisatsioonpindamine)
Hea teada
Materjali pinda pommitavate ioonide allikaks võivad olla ioonide kiir või plasmalahendus.
the phenomenon which occurs when atoms and ions are ejected from the surface of a solid or liquid as a result of high-energy particle bombardment (see: sputter deposition)
Hea teada
The ion source can be an ion beam or a plasma discharge in which the material to be bombarded is immersed.
