physical vapor deposition
pinde sadestamine ühe elemendi või ühendi aurustamise ja kondenseerimise teel taval. kõrges vaakumis (vt aursadestus, atomisatsioonpindamine, ioonpindamine), process of depositing a coating by vaporizing and subsequently condensing an element or compound, usually in a high vacuum (see: vapor deposition, sputtering, ion plating), процесс (операция), в случае которого(й) ионы, полученные в результате испарения физическими методами (электроконтактный, лазерный или электронно-лучевой нагрев) или катодным распылением, осаждают на поверхность детали (изделия), в результате чего образуется тонкое покрытие (см. термическое испарение в вакууме, ионное осаждение, катодное распыление)