low pressure chemical vapor deposition

Erialasõnastikud

Materjalitehnika terminibaas

ID 670343 Viimati muudetud 10.01.2025

Vaata sõnakogu

Valdkond surface treatment - corrosion protectionpinnakeemia

madalrõhk-keemiline aursadestuspindamine eelistatud

madalrõhk-keemiline aurustussadestuspindamine

madalrõhk-CVD

low pressure chemical vapor deposition eelistatud

low-pressure CVD

LPCVD

вакуумное химическое осаждение из газовой фазы

разреженное газофазное химическое осаждение

разреженное ГФХО

химическое нанесение при низком давлении variant

химическое осаждение из газовой фазы при низком давлении

химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении

химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении

химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении

химическое осаждение из разреженной газовой фазы

химическое осаждение из разреженной паровой фазы

химическое парофазное осаждение при низком давлении

keemiline aursadestuspindamine atmosfäärirõhust madalamal rõhul (osalises vaakumis) (vt keemiline aursadetuspindamine)

chemical vapor deposition (CVD) process carried out at pressure lower than atmospheric pressure (see: chemical vapor deposition)

процесс химического осаждения из паровой фазы (ХОПФ), который проводится при давлении меньше 100 Па (см. химическое осаждение из паровой фазы)