low pressure chemical vapor deposition, low-pressure CVD
keemiline aursadestuspindamine atmosfäärirõhust madalamal rõhul (osalises vaakumis) (vt keemiline aursadetuspindamine), chemical vapor deposition (CVD) process carried out at pressure lower than atmospheric pressure (see: chemical vapor deposition), процесс химического осаждения из паровой фазы (ХОПФ), который проводится при давлении меньше 100 Па (см. химическое осаждение из паровой фазы)
